高機能セラミックス基板の専業メーカ 材料混錬・シート塗工・焼成・回路印刷までの一貫社内工程|佐賀県有田町
共立エレックス株式会社
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高反射率セラミックス基板

高反射率特性を持つセラミックス基板

アルミナセラミックスを基本素材とする高反射率セラミックス基板をご提供可能です。
製造過程において特殊な添加剤やコーティングを用いていないので、後工程プロセスでのコンタミの心配がありません。従来からのアルミナ基板などの設備が共有できるため、既存品同等の大量生産へ対応が可能です。
また既存原材料群で構成されている為、環境規制物質の含有がありません。

高反射率セラミックス基板

セラミックス基板単体で高反射率を実現します

高反射率セラミックス基板の特徴と用途例

【特徴】

  • 可視光から近紫外領域までの高反射率特性
    (波長450nmで反射率:92%)
  • 反射率劣化や変色が殆ど無い
  • 紫外線照射による劣化が少ない
  • 多孔質表面のためアンカー効果を
     活かせるデバイスには最適
  • 反射材料の付与が無いため、
     耐熱温度が高い(最大350℃)

【用途例】

  • LEDパッケージ基板
  • 光学反射板(補正板)
  • 各種光学デバイス

高反射率セラミックスの反射率特性

高反射率アルミナセラミックス基板では92%の反射率(@450nm)が得られています

  【比較】汎用アルミナセラミックス基板(当社型番:KA6)の反射率:89%
  【評価サンプル】サンプル片厚 t=0.82 
  【測定方法】  硫酸バリウムを基準にした「相対拡散反射法」

反射率グラフ_高反射セラミックス比較

更なる高反射率セラミックス技術への挑戦

光学デバイスの用途展開が広がり、セラミックス材料の光学特性ニーズが急激に高まっています。
特に活用領域が広がっている紫外線デバイスに対しても耐熱性・耐久性に優れたセラミックス材料は注目されています。
当社では「材料混錬からの一貫製造プロセス」を有する強みを活かして、新たに「アルミナ・ジルコニアの混合素材」による『超高反射率セラミッス基板(RZB基板)』を開発し、反射率:98%(@450nm)を達成しました

  • 超高反射率セラミックス基板(RZB基板) : 98%(@450nm)
  • 高反射アルミナセラミックス基板    : 92%(@450nm)
  • 標準アルミナセラミックス基板(KA6)  : 89%(@450nm) 

詳細な技術的内容については「当社技術の紹介」をご覧ください。

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